ApertaScadenza 20 settembre 2026
Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
ISTITUTO ITALIANO DI TECNOLOGIA
Stazione appaltanteISTITUTO ITALIANO DI TECNOLOGIA
Importo a base di gara€ 680.000
Scadenza20 settembre 2026
StatoAperta
RegioneLiguria
Località—
ProceduraAperta
CategoriaForniture
CIGBC909371FE
CPV—
Pubblicazione3 agosto 2026
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